臺(tái)積電2019年正式啟動(dòng)7nm產(chǎn)品的量產(chǎn)，這只能通過波長極短的EUV進(jìn)行操作。資料顯示，EUV光源波長比目前深紫外線微影的光源波長短少約15 倍，因此能達(dá)到持續(xù)將線寬尺寸縮小的目的。

4月9日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML(阿斯麥)去年交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)(EUV)，調(diào)查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺(tái)積電。

ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)。其中，在第四季度交付了8臺(tái)。

ASML還透露，去年交付的26臺(tái)極紫外光刻機(jī)中，有9臺(tái)是最新型號(hào)，即NXE:3400C。

英國調(diào)查公司Omdia推測(cè)稱，ASML去年交付的26臺(tái)極紫外光刻機(jī)，大約一半面向臺(tái)積電。

臺(tái)積電2019年正式啟動(dòng)7nm產(chǎn)品的量產(chǎn)，這只能通過波長極短的EUV進(jìn)行操作。資料顯示，EUV光源波長比目前深紫外線微影的光源波長短少約15 倍，因此能達(dá)到持續(xù)將線寬尺寸縮小的目的。

在晶圓代工領(lǐng)域，臺(tái)積電掌握了全球約一半份額。

另外，三星電子、英特爾等也采購了ASML的極紫外光刻機(jī)設(shè)備。

ASML服務(wù)的客戶為全球主要的半導(dǎo)體制造商，打造在電力電子、通信和信息技術(shù)產(chǎn)品中廣泛應(yīng)用的芯片。

ASML公司總部位于荷蘭的Veldhoven市。生產(chǎn)基地和研發(fā)設(shè)施則位于康涅狄格州、加州、中國臺(tái)灣和荷蘭。科技發(fā)展中心及訓(xùn)練設(shè)施位于日本、韓國、荷蘭、中國臺(tái)灣和美國。

ASML在阿姆斯特丹泛歐證券交易所和納斯達(dá)克上市。周三收盤，ASML(NASDAQ:ASML)股價(jià)上漲2.2%至278.58美元，總市值約1169.51億美元。

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