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三星第七代V NAND閃存可達(dá)176層 采用了“雙堆?!奔夹g(shù)

2020-09-10 15:08:07 來源: 雷鋒網(wǎng)

今年 6 月,三星宣布將投資約 9 萬億韓元在位于韓國京畿道平澤工廠的 2 號線建設(shè)新的 NAND 閃存芯片生產(chǎn)設(shè)施,以擴(kuò)大 NAND 閃存的生產(chǎn)線,并預(yù)計(jì)該設(shè)施將于 2021 年下半年投入運(yùn)營。三星表示,

根據(jù)韓媒報道,三星在下一代閃存芯片的開發(fā)中取得重大進(jìn)展,第七代 V NAND 閃存芯片將達(dá)到 176 層,并將于明年 4 月實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。這將是業(yè)界首個高于 160 層的高級別的 NAND 閃存芯片,三星將因此再次拉開與競爭對手的技術(shù)差距,維持自 2002 年以來一直在全球 NAND 閃存市場中排名第一的地位。

相比于上一代閃存,第七代閃存在堆棧上取得明顯的進(jìn)步。三星的第六代 NAND 閃存是 128 層,于今年 6 月開始量產(chǎn),而第七代閃存將達(dá)到 176 層,盡管并沒有達(dá)到其最初計(jì)劃的 192 層,但依然有著明顯的進(jìn)步。

據(jù)悉,第七代 NAND 閃存采用了 “雙堆棧”技術(shù),這是一種可以將通孔分成兩部分的,以便電流通過電路的方法。過去的單堆棧只能有一部分通孔,隨著堆棧層數(shù)的增多,工藝也隨之改進(jìn)。

今年 6 月,三星宣布將投資約 9 萬億韓元在位于韓國京畿道平澤工廠的 2 號線建設(shè)新的 NAND 閃存芯片生產(chǎn)設(shè)施,以擴(kuò)大 NAND 閃存的生產(chǎn)線,并預(yù)計(jì)該設(shè)施將于 2021 年下半年投入運(yùn)營。三星表示,將在新地點(diǎn)大規(guī)模生產(chǎn)尖端 NAND 存儲芯片,可能比原計(jì)劃更早開始量產(chǎn)第七代 NAND 閃存芯片。

與 ARAM 相比,NAND 閃存是更具代表性的存儲芯片,且其存儲容量隨著堆棧數(shù)的鄭家而增加,因此堆棧的層數(shù)也被視為 NAND 閃存的核心競爭力。

三星一直通過減少集成電路的線寬來提高存儲芯片的性能和容量,引領(lǐng)高級 NAND 閃存的開發(fā)。

自 2006 年以來,三星一直研究 3D NAND 閃存。在存儲芯片的發(fā)展過程中,隨著存儲數(shù)據(jù)的單元變小,當(dāng)線寬小于 10nm 時,便容易受到單元同單元之間的干擾,而 3D NAND 閃存能夠垂直放置在平面中排列的單元,以減少單元間的干擾。這是一種通過像公寓一樣垂直堆疊現(xiàn)有平面結(jié)構(gòu) NAND 來增加存儲容量的方法,在業(yè)界被稱之為 3D NAND 閃存,被三星獨(dú)立命名為 V NAND。

2013 年,三星成功量產(chǎn)了世界上第一個三維單元結(jié)構(gòu)的 V NAND 閃存,從而改變了技術(shù)范式。當(dāng)時許多人對 V NAND 閃存的商業(yè)化表示懷疑,不過現(xiàn)在所有的存儲芯片公司都在展開激烈的 3D NAND 閃存競爭。長江存儲的 128 層 3D NAND 閃存已于今年宣布量產(chǎn),英特爾也有今年發(fā)布了 144 層 3D NAND 閃存,SK 海力士目前處于 176 4D NAND 研究階段,此外還有西部數(shù)據(jù)(Western Digital)和鎧俠(Kioxia)等公司也在競爭之列。

在第一代(24 層)V NAND 閃存商業(yè)化之后,三星持續(xù)增加堆棧層,目前已經(jīng)發(fā)展到第二代(32 層)、第三代(48 層)、第四代(64/72 層)、第五代(92/96 層)和第六代(128 層)。通常更新一代,需要 1 到 2 年時間。

三星于去年 8 月完成 128 層 V NAND 閃存的開發(fā),并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。當(dāng)時,三星宣布已經(jīng)向全球 PC 公司提供了基于第六代 NAND 閃存的企業(yè) PC 固態(tài)驅(qū)動器(SSD)。

在 NAND 閃存市場上,三星一直業(yè)界領(lǐng)先。去年,三星以 165.17 億美元的銷售額占據(jù)全球市場的 35.9%,在 NAND 閃存市場中排名第一,持續(xù)自 2002 年以來的領(lǐng)先地位。

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